Ionenstrahlpräparation

Hochauflösende Strukturuntersuchungen und orientierungsmikroskopische Methoden im Bereich der Rasterelektronenmikroskopie erfordern verformungs- und spannungsfreie Oberflächen. Eine konventionelle metallographische Präparation ist aufgrund der eingebrachten mechanischen Kräfte unzureichend. Der flächige Beschuss mit Argon-Ionenstrahlen ist eine technisch anspruchsvolle Methode zur verformungsfreien Präparation von Oberflächen. 

Das Prinzip ist in der folgenden Abbildung dargestellt: Die rotierende Probe wird mit zwei Ionenstrahlen unter einem sehr flachen Einfallswinkel beschossen. Beim Auftreffen der Argon-Ionen auf die Probenoberfläche wird durch deren kinetische Energie Material abgetragen.

Ionenstrahlpräparation
  • Planparallele Schliffe (oder zugesägte Proben) mit einer maximalen Diagonale von 25 mm
  • Schliffhöhe 6–11 mm
  • Der zu untersuchende Bereich befindet sich zentrisch im Schliff
  • Die Schliffoberfläche ist metallographisch vollständig zu präparieren. Dabei ist darauf zu achten, dass die Verformungen der vorangegangenen Präparationsschritte sehr gründlich abgetragen werden
  • Probe, Einbettmittel und Einbetthilfen müssen temperatur- (bis 120° C), vakuum-, elektronenstrahl- und ionenstrahlbeständig sein

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Rita Bretzler

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